AP&S International GmbH

AP&S International GmbH

„Wir haben die Erfahrung gemacht, dass die Mitgliedschaft bei TechnologyMountains eine hervorragende Möglichkeit ist, an interessanten Projekten aktiv mitzuwirken und neue Impulse zu erhalten.“

Alexandra Laufer-Müller
CEO

AP&S International GmbH
Obere Wiesen 9
78166 Donaueschingen

Telefon: +49 771 8983-0
Fax: +49 771 8983-0

www.ap-s.de
info@ap-s.de

Die AP&S International GmbH ist ein weltweit agierender Spezialist für die Entwicklung und den Bau von Nassprozessanlagen. Angeboten werden kundenspezifische Lösungen für das Ätzen, Reinigen, Beschichten und Trocknen von Wafern und Substraten sowie die hierfür erforderlichen Chemieversorgungssysteme. Das Produktportfolio reicht dabei von Labormodulen bis hin zu vollautomatischen Produktionsanlagen.

Zum internationalen Kundenkreis von AP&S gehören namhafte Firmen aus den Bereichen Halbleiterindustrie, Opto-Elektronik, MEMS, Photovoltaik, Displaytechnologie und Sensorik. Zum Marktumfeld, in dem AP&S tätig ist, zählen die sich am schnellsten weiterentwickelnden Branchen der Welt. Die frühzeitige Identifikation von Technologietrends und das aktive Mitgestalten von Technologiestandards sind deshalb entscheidende
Faktoren, um weltweit führend zu sein.

Um den technologischen Vorsprung zu halten und auszubauen, setzen wir bei AP&S vor allem auf den Faktor Mensch. Unser Team aus erfahrenen und engagierten Mitarbeitern arbeitet täglich an kreativen Lösungen um die spezifischen Anforderungen unserer Kunden nicht nur zu erfüllen, sondern zu übertreffen.


Wir Bieten
  • Entwicklung von Nassprozessanlagen für das Ätzen, Reinigen, Beschichten und Trocknen von (Halbleiter-)Substraten
  • Know-how in Nassprozess-Technologien
  • Hohe Problemlösekompetenz in den Bereichen Reinraumtechnik, Nassprozesstechnik und Automatisierung mit innovativer Software
  • Motivierte und engagierte Mitarbeiter
  • Ein Labor zur Entwicklung neuer Verfahren im Bereich nasschemischer Prozessierung
  • Ein internationales Service-Netzwerk

Schlagwörter
| | | | | |